用金属离子溶液催化对硅表面的抗反射蚀刻

摘要

本发明提供一种蚀刻硅表面(116)的方法(300)。所述方法(300)包括将带有硅表面(116)的衬底(112)置于(310)容器(122)中。容器(122)中加入(330，340)一定量的蚀刻溶液(124)以覆盖硅表面(116)。蚀刻溶液(124)包括催化溶液(140)和氧化剂-蚀刻剂溶液(146)例如氢氟酸和过氧化氢的水溶液。催化溶液(140)可以是提供催化金属的分子或离子物种的溶液。硅表面(116)通过例如用超声搅拌在容器中搅拌蚀刻溶液(124)被蚀刻(350)，蚀刻可包括加热(360)蚀刻溶液(124)和用光照(365)硅表面(116)。在蚀刻过程中，催化溶液(140)例如氯金酸的稀溶液在氧化剂-蚀刻剂溶液(146)的存在下可释放加速蚀刻过程的金属颗粒例如金或银纳米颗粒。