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一种窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法

摘要

本发明公开了一种窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法,它是通过两种不同的噻吩类衍生物单体按照一定的配比溶解在有机溶剂中,在无水无氧以及一定的温度条件下,经催化剂活化单体,引发聚合,待充分聚合后,将产物经过分离提纯,得到目标产物。本发明合成路线简洁,操作简单,经济有效,避免了环境不友好的有机金属中间体的合成,且制备的窄带隙聚噻吩衍生物可被广泛应用于如有机薄膜太阳能电池(OPVs)、有机薄膜场效应晶体管(OFETs)等光电器件之中。

著录项

  • 公开/公告号CN102633995B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-01-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201210069412.1

  • 发明设计人 马昌期;陈周群;

    申请日2012-03-16

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号

  • 入库时间 2022-08-23 09:17:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-01

    授权

    授权

  • 2012-10-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 61/12 申请日:20120316

    实质审查的生效

  • 2012-08-15

    公开

    公开

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