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无弧斑的真空电弧离子镀膜方法

摘要

一种无弧斑的真空电弧离子镀膜技术,将无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源安装在真空度为10-10-3Pa的真空镀膜室内,配置大直流电流弧电源,一般可达2000A,通电后,在这种大电流加热条件下,使阴极区从有斑冷阴极电弧向无斑热阴极扩散型电弧转化,产生无液滴、高电离度、高密度的金属蒸气等离子体射向阴极对面的工件,可实现离子镀膜。

著录项

  • 公开/公告号CN101476107B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 王殿儒;

    申请/专利号CN200810000002.5

  • 发明设计人 王殿儒;金佑民;

    申请日2008-01-02

  • 分类号C23C14/32(20060101);C23C14/16(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100086 北京市北三环西路48号3-3B

  • 入库时间 2022-08-23 09:17:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-15

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/32 变更前: 变更后: 申请日:20080102

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-12-25

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/32 变更前: 变更后: 登记生效日:20131206 申请日:20080102

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-12-11

    授权

    授权

  • 2011-01-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/32 申请日:20080102

    实质审查的生效

  • 2010-03-03

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20100129 申请日:20080102

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

  • 2009-09-16

    地址不明的通知 收件人:金佑民 文件名称:发明专利申请公布通知书 申请日:20080102

    地址不明的通知

  • 2009-07-08

    公开

    公开

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