一种利用高频场对磁约束聚变装置第一壁进行清洗的方法

摘要

一种利用高频场对磁约束聚变装置第一壁进行清洗的方法。实现步骤为：(1)在磁约束聚变装置真空室中预先充入0.1-10Pa的气体；(2)在磁约束聚变装置真空室中布置高频天线，然后以磁约束聚变装置真空室为负极，伸入在磁约束聚变装置真空室中的高频天线为正级，在负极和正极之间施加电压为3-5KV、频率为20-50KHz、功率为2-10KW的高频场；(3)在高频场的电离下，气体被击穿并产生稳定的高频等离子体放电，将对磁约束聚变装置真空室第一壁进行有效的轰击，在经过1-10小时的放电清洗后，达到对第一壁的清洗。本发明能提高清洗效率1倍。