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流体轴承结构及流体轴承结构的轴承凹面作成方法

摘要

本发明提供轴承凹面深度均匀的流体轴承结构和流体轴承结构的轴承凹面的形成方法。在轴承基座上并将筒状部件插入贯通孔中、形成使加压流体向流体轴承面间喷出的流体喷出口。在流体喷出口的周围形成轴承凹面。轴承基座和筒状部由不同种类材料制造。在轴承基座和筒状部上通过阳极氧化处理形成薄膜。由于轴承基座和筒状部由不同种类材料制造,所以轴承基座上的保护膜的厚度与筒状部上的保护膜的厚度不同。轴承基座选择保护膜的成长速度快的材料,筒状部选择保护膜成长慢的材料。

著录项

  • 公开/公告号CN102200169B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 发那科株式会社;

    申请/专利号CN201010148184.8

  • 发明设计人 羽村雅之;蛯原建三;大木武;

    申请日2010-03-24

  • 分类号

  • 代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人张敬强

  • 地址 日本山梨县

  • 入库时间 2022-08-23 09:16:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-12-11

    授权

    授权

  • 2011-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):F16C 17/10 申请日:20100324

    实质审查的生效

  • 2011-09-28

    公开

    公开

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