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用于集成电路的凸块应力减轻层

摘要

一种装置,包括:具有器件层的半导体基板、多个金属化层、钝化层以及形成在钝化层上并电耦合到至少一个钝化层的金属凸块。所述装置进一步包括形成在钝化层上的焊料限定层,所述焊料限定层遮蔽金属凸块的上表面的外边缘,因此使得上表面的外边缘不能被焊接材料润湿。

著录项

  • 公开/公告号CN102171805B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN200980139245.X

  • 发明设计人 K·J·李;

    申请日2009-12-07

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈松涛

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 09:16:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-09-11

    授权

    授权

  • 2011-10-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/60 申请日:20091207

    实质审查的生效

  • 2011-08-31

    公开

    公开

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