首页> 中国专利> 使用Ⅳ族纳米颗粒在晶片基底上形成结区

使用Ⅳ族纳米颗粒在晶片基底上形成结区

摘要

在此披露了一种形成扩散区的方法。该方法包括在一个晶片的表面上沉积一种纳米颗粒墨以形成一个非致密的薄膜,该纳米颗粒墨具有成组的纳米颗粒,其中该纳米颗粒组中的至少一些纳米颗粒中包括掺杂剂原子。该方法还包括将非致密的薄膜加热到一个第一温度并持续第一时间段以便从沉积纳米颗粒墨中去除一种溶剂,并将非致密的薄膜加热到一个第二温度并持续第二时间段以形成一个致密化薄膜,其中至少一些掺杂剂原子扩散进入晶片之中以形成扩散区。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-06-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/225 授权公告日:20130619 终止日期:20140425 申请日:20080425

    专利权的终止

  • 2013-06-19

    授权

    授权

  • 2011-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/225 申请日:20080425

    实质审查的生效

  • 2011-05-04

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号