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使不导电基底直接金属化的方法

摘要

本发明提供了一种使不导电基底金属化的方法,包括至少下列步骤:使基底与含金属的活化剂溶液接触;使基底与金属盐溶液接触,所述的基底已经与活化剂溶液接触,所述金属盐溶液包括:至少一种可被活化剂溶液中的金属还原的金属,络合剂,以及至少一种选自锂、钠、钙、铷和铯组成的组的金属;然后用金属对已处理的基底进行无电流涂覆或电镀涂覆;其特征在于金属盐溶液包括盐的形式的选自锂、钠、钙、铷和铯组成的组的金属,所述的盐的形式选自氟化物、氯化物、碘化物、溴化物、硝酸盐、硫酸盐或它们的混合物组成的组。

著录项

  • 公开/公告号CN1876891B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 恩通公司;

    申请/专利号CN200610094568.X

  • 申请日2006-06-09

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人杨海荣

  • 地址 美国康涅狄格州

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-03

    授权

    授权

  • 2007-02-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-12-13

    公开

    公开

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