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基于低剂量单步光栅的X射线相位衬度成像

摘要

相敏X射线成像方法可以提供与传统的基于吸收的成像相比基本上增加的衬度,并且因此提供新的且否则不可访问的信息。在硬X射线相位成像中将光栅作为光学元件的使用克服了已经损害相位衬度在X射线放射照相术和断层照相术中的更广泛应用的某些问题。到目前为止,为了将相位信息从利用光栅干涉仪检测的其他贡献中分离出来,已经考虑了相位步进方法,其隐含着对多个放射照相投影的获取。在这里,基于光栅干涉仪提出了创新的、高度灵敏的X射线断层照相相位衬度成像方法,其提取相位衬度信号而无需相位步进。与现有的相位步进方法相比,称为“反向投影”的该新方法的主要优势是显著地降低了传递的剂量而图像质量没有降级。该新技术为未来的快速和低剂量的相位衬度成像方法设置了先决条件,为成像生物标本和活体内研究设置了基础。

著录项

  • 公开/公告号CN102325498B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201080006650.7

  • 发明设计人 朱佩平;吴自玉;M.斯塔姆帕诺尼;

    申请日2010-02-03

  • 分类号A61B6/00(20060101);G01N23/04(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人刘春元;卢江

  • 地址 100049 北京市石景山区玉泉路19号B

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-10

    授权

    授权

  • 2012-03-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/00 申请日:20100203

    实质审查的生效

  • 2012-01-18

    公开

    公开

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