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一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法

摘要

本发明公开了一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜制作方法,包括衬底、吸收层和辐射层;衬底根据应用领域确定,一般为透明材料;吸收层由胶层和碳化层构成,是在原胶层的基础上进行碳化形成的黑色多孔蓬松状物质,具有高可见光吸收性能;辐射层是在吸收层的基础上溅射高红外辐射材料形成,使其具有原吸收层的粗糙表面从而进一步提高红外辐射特性;衬底的材料,吸收层的厚度和辐射层的材料和厚度都是根据实际应用选定。本发明的吸收辐射膜可利用微机械加工工艺形成各种精细的微结构,可控性高,同时还兼具高可见光吸收和高红外辐射得性能。

著录项

  • 公开/公告号CN102329086B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201110207415.2

  • 发明设计人 钱丽勋;韩阶平;李卓;吴峰霞;

    申请日2011-07-22

  • 分类号

  • 代理机构北京理工大学专利中心;

  • 代理人李爱英

  • 地址 100088 北京市西城区德外大街11号30栋411室

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-09-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C03C 17/34 授权公告日:20130710 终止日期:20140722 申请日:20110722

    专利权的终止

  • 2013-07-10

    授权

    授权

  • 2012-03-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 17/34 申请日:20110722

    实质审查的生效

  • 2012-01-25

    公开

    公开

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