首页> 中国专利> 具有抗反射膜的塑料光学器件以及用来使抗反射膜的厚度均一的机构

具有抗反射膜的塑料光学器件以及用来使抗反射膜的厚度均一的机构

摘要

在其塑料底料(10)的表面上涂有抗反射膜(10)的塑料光学器件中,此抗反射膜是多层膜,由先在此底料(10)的一侧淀积高折射材料的第一层(131)继以低折射材料的第二层再交迭地叠层以这些高、低折射材料而成。光学透镜底料(10)的表面有曲率,有多个这样的底料(10)水平地设置于可沿水平方向转动的圆盘支座(26)上。所用溅射膜淀积系统包括面对底料(10)表面的靶(31)。沿连接支座(26)的周边部与中央部的方向并在靶(31)与支座(26)之间设有起到掩模件作用的膜厚校正板以调节膜厚差。

著录项

  • 公开/公告号CN1130575C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2003-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 保谷株式会社;

    申请/专利号CN98800651.0

  • 发明设计人 葭原雅章;嘉村齐;神谷肇;

    申请日1998-05-18

  • 分类号G02B1/11;G02C7/02;B32B7/02;C23C14/34;C23C14/08;B32B9/00;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人刘志平

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 1/11 授权公告日:20031210 终止日期:20170518 申请日:19980518

    专利权的终止

  • 2004-05-12

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:19980518

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2004-05-12

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:19980518

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2003-12-10

    授权

    授权

  • 2003-12-10

    授权

    授权

  • 2000-11-22

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-11-22

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1999-08-25

    公开

    公开

  • 1999-08-25

    公开

    公开

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