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氟化处理方法和氟化处理装置以及氟化处理装置的使用方法

摘要

本发明提供可维持稳定的处理品质的氟化处理方法。其是将被处理物在规定的氟化气氛的氟化处理空间内进行加热保持而进行氟化处理的氟化处理方法,通过使与氟具有反应性的空间内结构物在上述氟化处理空间内露出,以在上述氟化处理空间内露出的空间内结构物的表面上预先形成有氟化层的状态下进行上述氟化处理,用于对被处理物进行氟化处理而供给的氟化源气体不会在氟化处理中由于将空间内结构物的表面氟化而大量地消耗。另外,即使供给的氟化源气体的氟化势能不足,上述空间内结构物表面的氟化层会放出氟化源气体。因此,可以适当地维持氟化处理中的氟化处理空间内的氟化气氛。

著录项

  • 公开/公告号CN102159747B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-05-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱沃特株式会社;

    申请/专利号CN200980136617.3

  • 发明设计人 渡边崇则;岩村英明;南克治;

    申请日2009-09-10

  • 分类号C23C8/08(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人蒋亭

  • 地址 日本国北海道

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-29

    授权

    授权

  • 2011-10-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 8/08 申请日:20090910

    实质审查的生效

  • 2011-08-17

    公开

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