公开/公告号CN102023498B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-05-08
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN201010282254.9
发明设计人 稻富裕一郎;
申请日2010-09-14
分类号
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;
代理人龙淳
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:14:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-05-08
授权
授权
2012-04-11
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/36 申请日:20100914
实质审查的生效
2011-04-20
公开
公开
机译: 抗蚀剂涂布显影装置,抗蚀剂涂布显影方法,抗蚀剂膜处理装置以及抗蚀剂膜处理方法
机译: 抗蚀剂涂布显影装置,抗蚀剂涂布显影方法,抗蚀剂膜处理装置以及抗蚀剂膜处理方法
机译: 作为形成程序的抗蚀剂涂布装置,其是抗蚀剂涂布装置,涂布显影单元以及具有该抗蚀剂膜的形成方法。