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抗蚀剂涂布显影装置和抗蚀剂涂布显影方法

摘要

本发明提供一种能够避免工艺过程气氛污染并且高效降低抗蚀图案的线宽粗糙度的抗蚀剂涂布显影装置和抗蚀剂涂布显影方法。抗蚀涂布显影装置(1)具备在基板(W)上涂布抗蚀剂而形成抗蚀膜的抗蚀膜形成部;对曝光的抗蚀膜进行显影的抗蚀剂显影部(18);生成包含对抗蚀膜具有溶解性的溶剂的蒸汽或气体的气体的溶剂气体生成部;调整利用气体生成部生成的气体的溶剂气体调整部;收纳具有在抗蚀剂显影部(18)显影而图案化的抗蚀膜的基板的、能够维持减压的处理室(62),该处理室(62)包括向所收纳的基板(W)供给利用溶剂气体调整部调整的气体的供给部;和对处理室进行减压排气的排气部。

著录项

  • 公开/公告号CN102023498B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN201010282254.9

  • 发明设计人 稻富裕一郎;

    申请日2010-09-14

  • 分类号

  • 代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-08

    授权

    授权

  • 2012-04-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/36 申请日:20100914

    实质审查的生效

  • 2011-04-20

    公开

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