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聚焦离子束系统和方法

摘要

聚焦离子束系统和方法。提供了一种用于修改样品或工件表面的离子束系统,该系统包括:用于产生离子的离子源;离子束聚焦柱,该离子束聚焦柱被配置为引导从该离子源接收的离子以形成离子束,并将该离子束朝目标区域聚焦;以及样品台,该样品台用于接收要修改的样品或工件并用于将样品或工件表面定位在目标区域,其中离子束聚焦柱包括孔径板,该孔径板具有非圆形射束限制孔径,该非圆形射束限制孔径被配置为限制离子束穿过该非圆形射束限制孔径的范围;以及多极像差补偿器,该多极像差补偿器被配置为向离子束施加四重像散以补偿由离子束聚焦柱中的一个或多个透镜产生的球面像差。多极像差补偿器可以是被配置为产生八极场的多极元件。提供了使用离子束修改样品或工件的相应方法。

著录项

  • 公开/公告号CN117293005A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023-12-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FEI 公司;

    申请/专利号CN202310745517.2

  • 发明设计人

    申请日2023-06-21

  • 分类号H01J37/305;H01J37/31;H01J37/30;H01J37/21;H01J37/153;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人张凌苗;吕传奇

  • 地址 美国俄勒冈州

  • 入库时间 2024-04-18 19:53:33

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