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集成式分子束外延坩埚制作方法、外延坩埚及分子束源炉

摘要

本发明涉及外延生长技术领域,具体公开了一种集成式分子束外延坩埚制作方法、外延坩埚及分子束源炉,其中,制作方法包括步骤:S1、准备石墨材质的芯轴组件;S2、在芯轴组件外周外延沉积生成第一热解氮化硼层;S3、在第一热解氮化硼层外周折弯缠绕加热丝,使加热丝紧贴固定在第一热解氮化硼层表面;S4、在第一热解氮化硼层外周外延沉积生成第二热解氮化硼层,第二热解氮化硼层完全覆盖加热丝;S5、氧化消除芯轴组件;该制作方法在无需增加额外工艺手段的前提下能制作出结构简单、制作成本低、制作效率高、热效率高、热场分布均匀且保温效果出众的集成式分子束外延坩埚。

著录项

  • 公开/公告号CN115637490A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023-01-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 季华实验室;

    申请/专利号CN202211378289.1

  • 申请日2022-11-04

  • 分类号C30B23/02;C30B23/06;C23C14/26;C30B29/40;C30B25/22;

  • 代理机构佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈椅行

  • 地址 528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号

  • 入库时间 2023-06-19 18:25:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-24

    公开

    发明专利申请公布

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