一种提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室

摘要

本发明公开了一种提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，包括上方放置线圈的真空腔室以及下方的气体反应腔室，上下两腔室由中间介质窗隔开；气体反应腔室内设有静电卡盘，用于固定晶圆；气体反应腔室的基底连接下射频偏压组件，用以在晶圆表面形成偏压电场；介质窗采用中心下凹，一周凸起的阶梯型结构，阶梯位于所能刻蚀的最大晶圆的边缘的正上方，用于提升晶圆边缘等离子体数，减少从晶圆中心到边缘的等离子体数目的差异；线圈包括内线圈和外线圈，内线圈位于质窗下凹位置，外线圈位于质窗上凸位置；线圈相对介质窗的垂直距离可调，用于改变气体反应处射频功率耦合等离子体的深度，从而改善反应腔室内等离子体的均匀性。