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公开/公告号CN115561979A
专利类型发明专利
公开/公告日2023-01-03
原文格式PDF
申请/专利权人 华南理工大学;
申请/专利号CN202211207341.7
发明设计人 李天;周绍林;陈志坚;李斌;
申请日2022-09-30
分类号G03F9/00;
代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司;
代理人郑宏谋
地址 510641 广东省广州市天河区五山路381号
入库时间 2023-06-19 18:11:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-01-03
公开
发明专利申请公布
机译: 光刻投影设备一种确定基板对准标记的位置的方法,一种设备制造方法及其制造的设备
机译: 用于对准元件的致动器装置,用于半导体光刻的投影曝光装置,以及用于对准元件的方法
机译: 用于对准元件,半导体光刻的投影曝光装置的致动器装置,以及用于对准元件的方法
机译:一种基于四象限光栅莫尔条纹的对准光刻改进方法
机译:使用全挠性橡皮图章和莫尔条纹技术的千分尺对准的多功能多级软光刻方法
机译:压印光刻中对准的数字莫尔条纹测量方法
机译:液晶晶格投影莫尔装置的装置常数的测定
机译:掩模投影立体光刻的多目标工艺规划方法。
机译:基于CCD图像分析的线性比例投影光刻光刻对准方法
机译:用于对准层的分子尺度软压印光刻在液晶装置中的对准层
机译:双面光刻:一种评估对准精度的方法