等离子体约束环、等离子体处理设备及处理半导体的方法

摘要

本发明公开了一种等离子体约束环、等离子体处理设备及处理半导体的方法，所述等离子体约束环设置在等离子体处理设备的反应腔内，等离子体约束环包括环形侧壁和与环形侧壁固定连接的气体通道壁；环形侧壁放置于支撑环上，支撑环与反应腔的侧壁固定；隔热缝隙，其设置在环形侧壁中，用于减慢热量从气体通道壁向反应腔的侧壁传递。本发明使得等离子约束环的温度达到预设的温度并保持，由此实现防止聚合物沉积的目的。