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公开/公告号CN115506010A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-23
原文格式PDF
申请/专利权人 中环领先半导体材料有限公司;
申请/专利号CN202211239387.7
发明设计人 韩少锋;徐强;康东东;李仕权;黄春峰;曹锦伟;王彦君;孙晨光;
申请日2022-10-11
分类号C30B23/02;C30B25/16;C30B25/18;
代理机构苏州高专知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人冷泠
地址 214000 江苏省无锡市宜兴经济技术开发区东氿大道
入库时间 2023-06-19 18:04:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-23
公开
发明专利申请公布
机译: 边缘部门中具有可控平坦度的外延晶片及其制造方法,能够通过使用ZDD控制晶片边缘的平坦度
机译: 半导体器件包括半导体衬底,半导体衬底上的栅极,半导体衬底上的外延层,栅极侧壁上的间隔物,源/漏区和低掺杂浓度区
机译: 一种用于形成如图5所示的功率半导体的方法,该方法具有衬底(2),具有至少沟槽(52)的电压维持外延层(1),与沟槽相邻并围绕沟槽的掺杂区(5a)。
机译:使用氢化物气相外延方法在错割的GaAs(0 0 1)衬底上外延掺锌GaN薄膜的X射线衍射表征
机译:Si衬底上掺硼超薄Ge外延层的低温微波退火工艺
机译:一种300nm厚的外延alinn薄膜,具有高度平坦的表面,几乎完全晶格匹配到C平面独立GaN衬底
机译:使用Si_3H_8 / PH_3 / CL_2化学选择性外延Si的选择性外延生长(SIG)高度掺杂的Si:p在NMOS器件的源/漏区
机译:通过金属有机气相外延在蓝宝石和块状氮化铝衬底上生长的掺硅氮化铝镓和紫外发光二极管的复合动力学
机译:通过无金属催化剂工艺在硅衬底上生长外延硅纳米线
机译:薄膜太阳能电池Si(111)衬底上掺硼p型BaSi2外延膜的分子束外延
机译:用于改善HgCdTe外延的晶格匹配CdTese衬底。阶段1