磁场调整装置、可产生均匀磁场的薄膜沉积设备及其沉积方法

摘要

本发明提供一种可产生均匀磁场的薄膜沉积设备，包括一反应腔体、一承载盘、一靶材、一磁力装置及至少一遮蔽单元。承载盘及靶材位于反应腔体的容置空间内，其中承载盘用以承载至少一基板，且靶材的一表面面对承载盘及基板。磁力装置位于靶材的另一表面，并经由靶材在反应腔体的容置空间内形成磁场。遮蔽单元包括复数个穿孔或凹槽，其中遮蔽单元由导电材质所制成，并位于部分的磁力装置与部分的靶材之间。遮蔽单元用以遮蔽磁力装置产生的部分磁力，以微调容置空间内的磁场分布，并可有效提高沉积在基板表面的薄膜厚度的均匀度。