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公开/公告号CN115386026A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-25
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州大学;
申请/专利号CN202211135324.7
发明设计人 刘小莉;孙薇;蒋池;陈红;
申请日2022-09-19
分类号C08F112/14;C08F8/04;C08F120/28;C12N5/071;
代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司;
代理人孙周强;陶海锋
地址 215137 江苏省苏州市相城区济学路8号
入库时间 2023-06-19 17:45:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-25
公开
发明专利申请公布
机译: 用于印刷的预涂制剂,用于印刷的基材,用于印刷的表面的制备方法,用于在基材上印刷图案的方法,用于对表面进行图案化的方法,图案化的物品,在表面上形成线性图案的方法,油墨印刷系统和套件
机译: 制备金属化纺织品表面图案的方法,金属化纺织品表面图案以及金属化纺织品表面图像的用途
机译: 制造表面金属膜材料的方法,表面金属膜材料,制造图案化金属材料,图案化金属材料和聚合物层形成组合物的方法
机译:聚乙烯醇图案化的聚合物表面的简单且无毒的制备,可用于形成细胞图案
机译:通过深紫外光刻技术对共面聚乙二醇烷基硅烷单层进行直接图案化,作为高保真,长期细胞图案化和培养的通用方法
机译:共混基于PEG的聚合物及其通过FIMIC方法在表面微图案化中的应用,以获取弹性的形貌平滑图案
机译:使用多臂聚乙二醇))-二十碳五烯酸在细胞表面进行细胞微图案化
机译:直接制备表面改性聚电解质层和图案化聚合物表面的新颖途径。
机译:通过深紫外光刻技术对共面聚乙二醇烷基硅烷单层进行直接图案化作为高保真长期细胞图案化和培养的通用方法
机译:可视化聚合物。聚合物系统形成的图案。 I.一种新型样品制备方法(深度蚀刻截面法)的开发和一些应用,用于使用透射电子显微镜观察聚合物材料的高阶结构。
机译:一种制备超薄,无粘合剂,多层图案化聚合物基材的方法