基于光催化机理的碳化硅化学机械抛光液

摘要

本发明涉及基于光催化机理的碳化硅化学机械抛光液技术领域，尤其涉及在光催化作用下产生活性物质，光催化化学反应领域，包括如下步骤：步骤S1：取质量百分比m0酯类化合物改性质量百分比m1的光催化剂和质量百分比m2的研磨颗粒；步骤S2：用超声波恒温T1处理时间t1，改性后渗透率强，有助于降低被抛光晶圆的粗糙度；步骤S3：将上述处理后的光催化剂和研磨颗粒分散在纯水中，并用双氧水调节PH值。