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公开/公告号CN115398047A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-25
原文格式PDF
申请/专利权人 学校法人关西学院;东洋铝株式会社;丰田通商株式会社;
申请/专利号CN202180028216.7
发明设计人 金子忠昭;堂岛大地;村川拓;松原萌子;西尾佳高;
申请日2021-03-30
分类号C30B29/38;C30B23/06;
代理机构北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人方挺;侯晓艳
地址 日本国兵库县
入库时间 2023-06-19 17:43:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-25
公开
国际专利申请公布
机译: 制备氮化铝基板,氮化铝基板的方法和抑制脱位引入到氮化铝生长层中的方法
机译: 一种生产均质氮氧化铝的方法,以及由根据现有方法通过该方法生产的氮氧化铝的生产方法
机译: 在硅衬底上外延生长单晶氮化铝层的方法包括准备衬底以形成平台层,蒸发铝层
机译:使用氮化铝和3C-SiC缓冲层在邻近Si(001)衬底上生长的半极镓氮化物层中的位错反应
机译:氮掺杂直拉生长硅衬底上外延层的晶体缺陷(Ⅱ)“通过控制晶体生长条件和碳共掺杂抑制外延层中的晶体缺陷”
机译:高氮掺杂4H-SiC衬底外延生长过程中多层肖克利型堆垛层错形成的观察
机译:使用稀有气体稀释的氮等离子体制造氮化铝阻挡层SIS混合器设备
机译:通过金属有机气相外延在蓝宝石和块状氮化铝衬底上生长的掺硅氮化铝镓和紫外发光二极管的复合动力学
机译:通过原位生长硼酸铝晶须来连接氧化铝和蓝宝石以及晶须与蓝宝石衬底的取向关系
机译:欧盟掺杂氮铝氧化铝,β-氧化铝型结构作为新的蓝色发光磷光体
机译:模拟氮化铝(alN)衬底上生长的氮化铝镓((al)GaN)薄膜的生长