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光学邻近修正操作方法与光学邻近修正操作装置

摘要

本发明公开一种光学邻近校正操作方法与光学邻近校正操作装置。光学邻近校正操作方法包括以下步骤。获得一光掩模布局图。若光掩模布局图具有至少一缺陷热点,则根据缺陷热点,从光掩模布局图取出至少一局部区域图案。以一机器学习模型分析局部区域图案,以获得至少一光学邻近校正策略。执行光学邻近校正策略,修正光掩模布局图。

著录项

  • 公开/公告号CN115373225A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN202110533878.1

  • 发明设计人 胡国信;赵育逵;邱崇益;

    申请日2021-05-17

  • 分类号G03F7/20;G03F1/36;

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陈小雯

  • 地址 中国台湾新竹市

  • 入库时间 2023-06-19 17:40:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-22

    公开

    发明专利申请公布

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