公开/公告号CN115373225A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-22
原文格式PDF
申请/专利权人 联华电子股份有限公司;
申请/专利号CN202110533878.1
申请日2021-05-17
分类号G03F7/20;G03F1/36;
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人陈小雯
地址 中国台湾新竹市
入库时间 2023-06-19 17:40:19
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-22
公开
发明专利申请公布
机译: 不对称图案的光学邻近修正模型形成方法,能够通过光学邻近修正将实现在临界尺寸上的晶片上实现的实际临界尺寸近似均衡
机译: 邻近效应修正方式和邻近效应修正装置
机译: 邻近效应修正遮罩和邻近效应修正方式