原子层沉积法用薄膜形成用原料及薄膜的制造方法

摘要

本发明提供原子层沉积法用薄膜形成用原料，其含有由下述式(1)表示的化合物。(式中，R1及R2各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，L表示下述式(L‑1)或者(L‑2)表示的基团，M表示铟原子或镓原子。)(式中，R11～R12各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的烷氧基，*表示与式(1)中的M的键合位置。)(式中，R21～R23各自独立地表示氢原子、氟原子或碳原子数1～5的烷基，*表示与式(1)中的M的键合位置。但是，R21与R22为不同的基团)。