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一种基于缺陷光子晶体中合成角度GH位移的病理切片检测结构及检测方法

摘要

本发明涉及一种基于缺陷光子晶体中合成角度GH位移的病理切片检测结构,可表示为D(AB)NC(BA)N,其中N为光子晶体的周期数,A、B分别为折射率不同的电介质薄片,C为待测折射率的病理切片,D为半球形电介质光波导。本发明还提供一种基于缺陷光子晶体中合成角度GH位移的病理切片检测方法,将两个不同入射角度测得的角度GH位移数据相加,得到一组灵敏度和线性度均较好且检测范围更宽的合成角度GH位移曲线,根据合成角度GH位移与切片折射率实部的正比关系得到切片的折射率实部,从而提高病理切片折射率检测的准确度。本发明所述检测结构及检测方法不仅检测速度快、操作简单,而且不会损坏病理切片,便于大规模生产和应用。

著录项

  • 公开/公告号CN115308163A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖北科技学院;

    申请/专利号CN202210789991.0

  • 申请日2022-07-06

  • 分类号G01N21/41;G01N21/01;

  • 代理机构武汉明正专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘璐

  • 地址 437000 湖北省咸宁市咸宁大道88号

  • 入库时间 2023-06-19 17:30:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-08

    公开

    发明专利申请公布

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