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公开/公告号CN115279221A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-01
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社东和公司;
申请/专利号CN202180015384.2
发明设计人 高桥久弥;小椎尾麻衣;柴田香织;中川梨沙;
申请日2021-03-19
分类号A41D19/015;A41D19/00;A41D19/04;
代理机构北京瑞盟知识产权代理有限公司;
代理人刘昕;孟祥海
地址 日本福冈县久留米市津福本町227番地
入库时间 2023-06-19 17:24:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-01
公开
国际专利申请公布
机译: 在制品表面上具有防滑结构的制品,该制品具有涂膜层,其赋予防滑效果,防滑体和手套,以及用于形成涂膜层的方法和 一种制造手套的方法。
机译: 制品表面,物品,抗滑体和用涂膜层施加抗滑效果的抗滑动结构,以及形成涂膜层的方法及制造手套的方法
机译: 防污涂料组合物,该组合物的制造方法,使用该组合物制成的防污涂料膜,在表面上具有该涂膜的被覆物品以及用于形成该涂料膜的防污处理方法
机译:用于硬质结构再生的防滑层和磷灰石薄膜赋予材料的形成和应用
机译:直接硼氢化物-过氧化氢燃料电池性能与采用Ni @ Pt / C作为阳极催化剂的催化剂涂覆膜方法和催化剂涂覆气体扩散层方法制备的膜电极组件的比较
机译:处理面漆涂膜以赋予耐污性的试剂和处理面漆涂膜以赋予耐污性的方法
机译:涂膜形成方法对热屏蔽涂膜无机燃烧产物反应和损伤过程的影响
机译:在催化剂涂覆膜的制造中使用用于质量控制系统的离聚物检测方法
机译:使用掺有羟丙基纤维素的旋涂聚合物抗蚀剂膜的常规微芯片表面改性方法
机译:一种基于数字化方法,用于表征增材制造中的涂膜层
机译:用于涂覆导体的氧化钇稳定氧化锆缓冲层沉积的新方法(后印刷)。