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一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法

摘要

本发明公开了一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法,是在基底上依次沉积底层介质薄膜和Cu薄膜后,先在空气中放置一段时间,然后再依次沉积Ag薄膜和顶层介质薄膜。在空气中放置可以改变Cu的化学状态,进而增强了对Ag薄膜岛状生长的抑制效果,从而同时提高了多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性。

著录项

  • 公开/公告号CN115101254A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202210751875.X

  • 发明设计人 方应翠;年宇杰;王帅;

    申请日2022-06-28

  • 分类号H01B13/00;H01B5/14;

  • 代理机构安徽省合肥新安专利代理有限责任公司;

  • 代理人卢敏

  • 地址 230051 安徽省合肥市包河区花园大道369号

  • 入库时间 2023-06-19 16:56:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-23

    公开

    发明专利申请公布

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