首页> 中国专利> 一种卡格列净杂质及其制备工艺和应用以及式II、式III化合物的制备工艺

一种卡格列净杂质及其制备工艺和应用以及式II、式III化合物的制备工艺

摘要

本发明公开了一种新的卡格列净杂质及其制备工艺和应用。该制备工艺包括:在惰性气体保护下,以2‑[(5‑溴‑2‑甲基苯基)甲基]‑5‑(4‑氟苯基)噻吩为起始原料,与联硼酸频那醇酯通过亲电取代催化反应生成化合物(式Ⅲ);再以2‑[(2‑溴‑5‑甲基苯基)甲基]‑5‑(4‑氟苯基)噻吩为原料,在碱性条件下,与化合物(式Ⅲ)进行催化反应得到卡格列净杂质(式Ⅱ)。本发明的制备工艺,合成路线简短,仅有两步,简化了操作工艺,反应条件较为温和,简便易操作,原料易得,节省了生产时间、劳动成本以及生产成本,该技术方案弥补了国内外无其制备方法的空白,也能降低医药企业开发此药品的成本,具有非常好的产业化应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN115028616A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海予君生物科技发展有限公司;

    申请/专利号CN202210573494.7

  • 发明设计人 胡大伟;吴明明;罗维;

    申请日2022-05-24

  • 分类号C07D333/12;C07F5/02;

  • 代理机构上海市汇业律师事务所;

  • 代理人唐嘉伟;余艳

  • 地址 201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区新杨公路860号10幢

  • 入库时间 2023-06-19 16:44:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-09

    公开

    发明专利申请公布

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