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在带电粒子系统中使用电压对比进行缺陷检查的系统和方法

摘要

提供了一种用于在带电粒子系统中使用电压对比进行缺陷检查的系统和方法。该系统和方法的一些实施例包括:将载物台定位在第一位置处,以使得多个射束中的第一射束能够在第一时间扫描晶片的第一表面区域以生成与第一表面区域相关联的第一图像;将载物台定位在第二位置处,以使得多个射束中的第二射束能够在第二时间扫描第一表面区域以生成与第一表面区域相关联的第二图像;以及将第一图像与第二图像进行比较,以使得能够检测是否在晶片的第一表面区域中识别出缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN115023786A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN202080094170.4

  • 发明设计人 方伟;周正韡;浦凌凌;

    申请日2020-12-17

  • 分类号H01J37/02;H01J37/26;H01J37/317;

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人张宁

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 16:41:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-06

    公开

    国际专利申请公布

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