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公开/公告号CN115003851A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-09-02
原文格式PDF
申请/专利权人 凸版印刷株式会社;
申请/专利号CN202180009116.X
发明设计人 松隈香;相川建一郎;小林昭彦;
申请日2021-01-28
分类号C23C14/04;H05B33/10;C23C14/24;H01L51/50;
代理机构永新专利商标代理有限公司;
代理人戚宏梅
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 16:38:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-02
公开
国际专利申请公布
机译: 蒸镀掩模,蒸镀掩模的掩模部件,蒸镀掩模的制造方法以及有机EL显示装置的制造方法
机译:开始开发用于铝蒸镀的透明窗口“掩模蒸镀”
机译:蒸镀基板的染色后清洗(4槽超声波自动清洗装置)-染色后,利用蒸镀膜对芯片进行紧凑清洗
机译:使用非晶硅蚀刻掩模对镀镍/铜的硅太阳能电池在纹理化晶体硅上进行氮化硅的无损激光图案
机译:利用新型建模方法对深空应用的先进蒸镀装置的设计与优化
机译:蒸镀率 :修改 订单 在 高度 结构化的 眼镜
机译:制造用于生物学分析的无掩模微流体装置的简单方法
机译:用于蒸镀系统的波长选择性近红外金属表面发射器的设计和制造
机译:用于蒸镀的金属有机化合物。