一种多层交替低红外发射率耐腐蚀薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开一种多层交替低红外发射率耐腐蚀薄膜及其制备方法，该薄膜的层数为不小于3的奇数，薄膜包括若干层TiN薄膜和Cr薄膜，薄膜的最内层和最外层均为TiN薄膜，相邻两层TiN薄膜之间设置有一层Cr薄膜，薄膜各层厚度可相同或不同。本发明采用本身具有相对较低发射率的TiN薄膜作为表面层和阻挡层，既能降低薄膜的红外发射率，又能起到耐磨耐腐蚀和阻碍元素扩散的作用，从而保护薄膜不受化学和机械损伤，采用金属Cr层作为内部发射层，通过其对红外辐射具有很高的反射率，从而降低薄膜的红外发射率，层与层之间结合良好，通过调控磁控溅射工艺参数调控薄膜的层数和各层的厚度，能够增加反射的能量，进一步降低薄膜的红外发射率。