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真空排气装置以及用于该真空排气装置的真空泵

摘要

本发明提供一种能够高精度且高速地控制被排气室内的压力的真空排气装置以及用于其的真空泵。具有:真空泵(1),具备通过旋转而将被排气室(4)的内部排气的转子、具有吸气口的壳体;阀(2),配置在真空泵(1)的吸气口与被排气室的排气口之间;控制装置(3),将被排气室(4)的内部的压力控制为与目标值一致。控制装置(3)中,在被排气室(4)的内部的压力与目标值的差的绝对值大于既定值时调整阀(2)的开度,在被排气室(4)的内部的压力与目标值的差的绝对值小于既定值时调整真空泵(1)的转子的旋转速度。

著录项

  • 公开/公告号CN114729646A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 埃地沃兹日本有限公司;

    申请/专利号CN202080081238.5

  • 发明设计人 大立好伸;前岛靖;高阿田勉;

    申请日2020-11-27

  • 分类号F04D19/04;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人李婷;张一舟

  • 地址 日本千叶县

  • 入库时间 2023-06-19 15:55:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-08

    公开

    国际专利申请公布

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