一种杂散光测量系统及其测量方法和装置

摘要

本发明实施例公开了一种杂散光测量系统及其测量方法和装置，该测量系统包括：掩膜版，掩膜版具有遮光图案组合，遮光图案组合包括形状相同的第一图案和第二图案，第一图案的外边缘半径值大于第二图案的外边缘半径值，第一图案和第二图案的中心具有形状和尺寸均相同的透光区域；光刻机，光刻机内容置有待光刻基板，光刻机用于通过掩膜版对待光刻基板进行一次曝光，并在曝光完成后测量待光刻基板的曝光参数，根据曝光参数得到第一杂散光占比，第一杂散光的影响距离大于或等于第二图案的外边缘半径值。本发明实施例中，提高了杂散光测试精确度。