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基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法

摘要

本发明提供基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法,在减压气氛下搬运基片的基片搬运装置中,能够始终监视基片的位置。本发明的基片搬运装置在减压气氛下对基片处理装置搬运基片,包括:基片保持部,其用于保持所述基片;和基片测量部,其被设置于所述基片保持部,对所述基片相对于该基片保持部的位置进行测量。

著录项

  • 公开/公告号CN114664692A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN202111524734.6

  • 发明设计人 阪上博充;儿玉俊昭;

    申请日2021-12-14

  • 分类号H01L21/67;H01L21/677;

  • 代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳;王昊

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 15:44:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-24

    公开

    发明专利申请公布

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