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输送基片的装置、处理基片的系统和输送基片的方法

摘要

本发明提供输送基片的装置、处理基片的系统和输送基片的方法,能够调节叉形部件的倾斜。基片输送装置包括:末端执行器,其具有保持基片的叉形部件和保持叉形部件的根端部的腕部;以及臂,其能够安装末端执行器并具有使叉形部件移动的机构,在基片输送装置的保持叉形部件的根端部的腕部与臂之间具有调节叉形部件的倾斜的倾斜调节机构,该倾斜调节机构包括:用于从下表面侧支承腕部的3个支承销;使这些支承销的上端的高度位置彼此相对地变化的高度调节部;和被设置成将叉形部件向支承销一侧牵引的牵引销。

著录项

  • 公开/公告号CN114649246A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN202111499716.7

  • 申请日2021-12-09

  • 分类号H01L21/677;H01L21/67;

  • 代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳;刘芃茜

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 15:43:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-21

    公开

    发明专利申请公布

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