扫描路径的优化方法、应用及半导体材料表面的检测方法

摘要

本发明提供一种扫描路径的优化方法、应用及半导体材料表面的检测方法，属于半导体表面检测技术领域，该扫描路径的优化方法通过根据待扫描区域、扫描成像视野和重叠区域的限制条件作为恒定参量，以扫描数量和实际重叠区域作为需要优化的参量，建立不等式模型；并通过对该不等式模型进行整数求解，获得相同条件下，扫描的图片数量最少、同时相邻的两个成像视野的重叠区域最大的扫描路径的规划。该方法无需做任何的硬件改动，可以有效节省整体晶圆的扫描时间，并减少成像视野图像的处理数量和储存容量。