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用于处理衬底的设备和用于测量衬底的温度的方法

摘要

本发明涉及一种用于处理衬底的设备和用于测量衬底的温度的方法。用于处理衬底的设备包含温度测量部件和光透射屏蔽板。温度测量部件包含:光源;光接收部件,配置成接收从光源照射的光当中的由衬底或屏蔽板反射的反射光和从衬底发射的辐射光,以测量反射光的量和辐射光的强度;以及温度计算部件,配置成通过使用反射光的量和辐射光的强度来计算屏蔽板的污染水平所反映到的衬底的温度。

著录项

  • 公开/公告号CN114496825A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AP系统股份有限公司;

    申请/专利号CN202111248945.1

  • 申请日2021-10-26

  • 分类号H01L21/66;H01L21/67;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5

  • 入库时间 2023-06-19 15:16:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-13

    公开

    发明专利申请公布

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