公开/公告号CN114441043A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-05-06
原文格式PDF
申请/专利号CN202210074624.2
申请日2022-01-21
分类号G01J5/00;
代理机构
代理人
地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区华师园北路18号博瀚科技光电子信息产业基地二期2栋B单元3层20号
入库时间 2023-06-19 15:11:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-05-06
公开
发明专利申请公布
机译: κραματοςπκ的生产方法
机译: 图案校正方法和光掩模的制造方法
机译: 温度测量装置的校准方法,光刻设备和物品的制造方法