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紫外发光二极管外延结构、紫外发光二极管及制备方法

摘要

本发明提出了一种紫外发光二极管外延结构、紫外发光二极管及制备方法。所述外延结构包括自下而上依次设置的衬底、PVD AlN层、第一AlN层、第二AlN层、第三AlN层、n型AlGaN接触层、多量子阱有源层、p型AlGaN阻挡层和p型GaN层,所述第二AlN层和所述第三AlN层的接触面之间形成有微孔结构。本发明所提出的紫外发光二极管外延结构,通过在第二AlN层上生长第三AlN层,形成三维到二维生长模式的转换,模式转换过程中自然形成微孔结构。通过生长模式的转换和微孔结构,可以大幅改善材料的晶体质量和有效释放外延层的张应力,从而制备出高质量的无裂纹AlN层。

著录项

  • 公开/公告号CN114420808A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 安徽格恩半导体有限公司;

    申请/专利号CN202210049971.X

  • 发明设计人 阚钦;

    申请日2022-01-17

  • 分类号H01L33/12;H01L33/14;H01L33/00;

  • 代理机构北京文慧专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人戴丽伟

  • 地址 237161 安徽省六安市金安区三十铺镇六安大学科技园A1楼

  • 入库时间 2023-06-19 15:05:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/12 专利申请号:202210049971X 申请日:20220117

    实质审查的生效

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