一种提高溅射速率的磁场结构

摘要

本发明属于一种提高溅射速率的磁场结构，包括靶管（1），其特征在于一条中心磁铁（2），两条中间磁铁（3），两条边缘磁铁（4）共五条磁铁，以NS极交替设置放置在靶管上1，靶管上装有配重（6），靶材（5）套在靶管上，该发明结构简单，有效提升靶材的溅射速率，加快了涂层沉积速度，缩短了镀膜时间，降低了镀膜成本。