首页> 中国专利> 超硬纯同位素10BP半导体微纳米线的制备

超硬纯同位素10BP半导体微纳米线的制备

摘要

本发明属于磷化硼材料制备技术领域,具体涉及超硬纯同位素10BP半导体微纳米线的制备,本发明利用VLS生长机制成功合成了超长超硬同位素纯10BP微纳米线,克服了硼的高熔点与磷的低升华温度之间的热力学矛盾。具体是以镍粉为催化剂,以富含红磷和同位素的10B粉为前驱体,合成得到超长超硬10BP微纳米线。与在较低温度下合成的超硬材料相比,10BP微纳米线表现出优异的性能,其长度达到1.1cm,硬度相当高,达到了40GPa的超硬阈值(41GPa)。此外,将10BP微纳米线集成到探测器中,器件表现出良好的光响应和压电特性,证明了该材料在光电、应变传感和固态半导体核辐射检测中的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN114314505A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中山大学;

    申请/专利号CN202111651342.6

  • 发明设计人 郑伟;陆雪芳;宋晓宇;黄丰;

    申请日2021-12-30

  • 分类号B82B3/00(20060101);B82Y40/00(20110101);H01L31/0352(20060101);H01L31/08(20060101);

  • 代理机构44367 深圳市创富知识产权代理有限公司;

  • 代理人高冰

  • 地址 510275 广东省广州市海珠区新港西路135号

  • 入库时间 2023-06-19 14:54:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号