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改进的高次谐波生成装置

摘要

一种用于生成高次谐波辐射的高次谐波生成组件和方法。所述组件包括空腔,被配置为接收输入辐射,并且增加所述空腔内的所述输入辐射的所述强度,以形成适合用于高次谐波生成的驱动辐射。所述组件还包括:所述空腔内的相互作用区域,在使用中,所述相互作用区域存在介质,所述介质被配置为当所述驱动辐射被入射到其上时通过高次谐波生成来生成谐波辐射;以及光学组件,被配置为引导所述驱动辐射穿过所述相互作用区域,并且包括输出耦合器,所述输出耦合器包括孔径,通过所述孔径所生成的谐波辐射的至少一部分能够离开所述空腔。所述光学组件还被配置为在所述驱动辐射穿过所述相互作用区域之前将所述驱动辐射整形为会聚的中空束。

著录项

  • 公开/公告号CN114342564A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN202080062427.8

  • 申请日2020-09-04

  • 分类号H05G2/00(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人赵林琳

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 14:49:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    公开

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