首页> 中国专利> 一种富含氧空位的WO3纳米阵列光催化剂的制备方法及其应用

一种富含氧空位的WO3纳米阵列光催化剂的制备方法及其应用

摘要

本发明提供一种富含氧空位的WO3纳米阵列光催化剂的制备方法及其应用,属于光催化剂技术领域,本发明包括以下步骤;(1)将钨酸盐、表面活性剂溶于水中,得到溶液1;(2)将过渡金属盐溶于水中进行分散,制溶液2;(3)将溶液2滴入溶液1中,制成溶液3;(4)向溶液3中添加酸性溶液,搅拌得到溶液4;(5)将溶液4进行水热反应;(6)真空干燥,得到有色产物;(7)将有色产物植入管式炉中,在特定气氛下进行加压焙烧,得到富含氧空位的WO3纳米阵列光催化剂。本发明可以自模板生成不同阵列形貌的氧化钨纳米材料,提高可见光选择性;通过氧空位、硫空位或氮空位增加材料的表面吸附能和光电子捕获能力,实现光催化材料的高度选择性。

著录项

  • 公开/公告号CN114225944A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州电子科技大学;

    申请/专利号CN202111648418.X

  • 发明设计人 张怀伟;鲍亮;陈逸凡;元勇军;

    申请日2021-12-31

  • 分类号B01J23/888(20060101);C01B3/04(20060101);C01C1/04(20060101);

  • 代理机构33246 浙江千克知识产权代理有限公司;

  • 代理人黎双华

  • 地址 310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道2号大街1158号

  • 入库时间 2023-06-19 14:40:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-25

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号