一种光学邻近效应预处理方法、装置、介质及设备

摘要

本发明属于微电子技术领域，尤其涉及一种光学邻近效应预处理方法及与之相应的装置、介质及设备；通过对电路版图的校正，消除了潜在的断路风险；相关方法、装置等适用于局部版图紧密度高的场景，可避免高的刻蚀率引起的线端退缩，进而保证孔洞包覆率，避免断线等现象的出现。