保持叶片气膜冷却孔通畅的镀覆方法

摘要

本发明公开了一种保持叶片气膜冷却孔通畅的镀覆方法，包括；根据叶片形状以及与等离子射流的相对位置关系对气膜冷却孔进行分类，包括位于叶片片身位置的第一气膜冷却孔、位于叶片进气边的第二气膜冷却孔和位于叶片排气边的第三气膜冷却孔；采用等离子物理气相沉积方法对叶片进行热障涂层镀覆，镀覆时对第一气膜冷却孔采用堵塞冷气通道或充合理参数的加热气体的方法，并对叶片的进气边一侧和排气边一侧分别设有物理遮挡装置；采用本发明沉积的叶片，气膜冷却孔镀覆涂层后保持通畅，缩孔率在15%以内，方法简单，适合批量工业化生产。