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一种基于激光直写曝光的PCB生产工艺

摘要

本发明提供了一种基于激光直写曝光的PCB生产工艺,步骤为:S1.真空压合;S2.水平沉铜;S3.VCP电镀;S4.自贴干膜;S5.激光直写曝光;S6.干膜显影;S7.酸性蚀刻;S8.阻焊印刷。本发明将VCP电镀与激光直写曝光相结合的方式进行PCB板的生产,通过脉冲电流VCP电镀,镀铜深度能力达到100%,镀层孔铜与面铜厚度为1:1,显著提高产品品质,通过激光直写曝光不需要制作线路菲林、不存在线路底片涨缩导致的线路曝偏问题、不会出现能量不足导致的曝光不足或曝光过度问题,曝光速度快,效率高,VCP电镀显著改善PCB板最终产品品质,有利于降低生产成本,提高经济效益,具有市场应用前景和市场推广价值。

著录项

  • 公开/公告号CN114126244A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广德东风电子有限公司;

    申请/专利号CN202111450450.7

  • 发明设计人 沈海平;沈哲;严星冈;韩建;

    申请日2021-12-01

  • 分类号H05K3/18(20060101);H05K3/06(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构34122 合肥未来知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人叶丹

  • 地址 242200 安徽省宣城市广德经济开发区长安路749号

  • 入库时间 2023-06-19 14:19:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    发明专利申请公布

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