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一种应用于高精度高共模差动放大器的电阻版图排布结构及修调方法

摘要

本发明公开一种应用于高精度高共模差动放大器的电阻版图排布结构及修调方法,电阻版图排布结构包括两个阻值不同的电阻阵列;修调方法步骤为:1)量测第一电阻阵列的实际阻值;2)设定第二电阻阵列的修调目标值,记为N*R;3)量测第二电阻阵列的实际阻值;4)对第二电阻阵列中可修调背包电阻RN的粗调区域进行激光修调;6)对第二电阻阵列中可修调背包电阻RN的细调区域进行激光修调,并返回步骤7)。本发明通过对两个电阻的版图特殊排布,降低两个电阻在工艺加工过程中的偏差,提高两个电阻的初始匹配度,可以在仅修调一个电阻和较小的电阻修调面积下,达到较高的电阻匹配度和降低了修调成本,提高了电阻稳定性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F30/392 专利申请号:2021113193888 申请日:20211109

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