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快速定位集成电路失效位置的方法及装置

摘要

本发明公开了一种快速定位集成电路失效位置的方法,包括:步骤S1,导通集成电路中的任意一个包含PN结的器件,并对所述集成电路失效点施加测试信号;步骤S2,使用热发射显微镜从正面和背面分别获取所述PN结和所述失效点的深度信息;步骤S3,通过比较所述PN结和所述失效点的深度信息来判断所述失效点的失效位置。能够快速定位失效位置是在芯片内部还是在封装上,提高失效分析的效率。

著录项

  • 公开/公告号CN114035029A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN202111268376.7

  • 发明设计人 丁德建;高金德;

    申请日2021-10-29

  • 分类号G01R31/311(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭立

  • 地址 201315 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2023-06-19 14:09:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R31/311 专利申请号:2021112683767 申请日:20211029

    实质审查的生效

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