一种增强光模式空间限制的AlGaAs光波导制作方法

摘要

本发明公开了一种增强光模式空间限制的AlGaAs光波导制作方法，包括：S1，在GaAs衬底晶圆上生长AlGaAs外延层；S2,将AlGaAs外延层上法的粘附剂与临时载片进行键合；S3，通过刻蚀或腐蚀完全去除GaAs衬底；S4，在另一种材料的衬底晶圆上旋涂BCB并固化；S5，将AlGaAs外延层表面与BCB表面键合；S6，去除临时载片及粘附剂；S7，光刻并刻蚀出AlGaAs条形结构，完成AlGaAs光波导制作。本发明制作的AlGaAs光波导，具有更高的光模式空间限制作用，能有效缩小光模式尺寸，减小光传输损耗，降低波导弯曲半径。